公司由留學(xué)歸國(guó)人員和國(guó)內(nèi)知名真空領(lǐng)域的專家創(chuàng)辦。主要是以當(dāng)前國(guó)際真空領(lǐng)域已經(jīng)開始采用的新技術(shù)產(chǎn)品為發(fā)展方向,從事真空應(yīng)用領(lǐng)域的設(shè)備、部件及工藝的研發(fā)生產(chǎn)。華迅真空科技擁有專業(yè)的真空技術(shù)、設(shè)備開發(fā)團(tuán)隊(duì),他們十幾年來(lái)一直自主開發(fā)、制造真空薄膜技術(shù)的應(yīng)用設(shè)備和產(chǎn)品。并且被廣泛應(yīng)用在薄膜材料的研究與獲得,建筑裝飾行業(yè)和太陽(yáng)能利用領(lǐng)域,得到了國(guó)內(nèi)外客戶的好評(píng)
聯(lián)系方式
其他聯(lián)系方式
工商信息和基本資料
- 法人名稱:
- 沈陽(yáng)華迅真空科技有限公司
- 簡(jiǎn)稱:
- 華迅真空
- 主要經(jīng)營(yíng)產(chǎn)品:
- 多靶雙室磁控濺射鍍膜機(jī) , 超高真空系統(tǒng)部件 , 真空烘烤系統(tǒng) , 太陽(yáng)能真空集熱管鍍膜機(jī)
- 經(jīng)營(yíng)范圍:
- 超高真空系統(tǒng)、光電子薄膜開發(fā)、制造;國(guó)內(nèi)一般貿(mào)易(法律法規(guī)限制的項(xiàng)目除外);自營(yíng)和代理各類商品和技術(shù)的進(jìn)出口,但國(guó)家限定公司經(jīng)營(yíng)或禁止進(jìn)出口的商品和技術(shù)除外。(依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)。
- 營(yíng)業(yè)執(zhí)照號(hào)碼:
- 91210112738682001W
- 發(fā)證機(jī)關(guān):
- 沈陽(yáng)市渾南區(qū)市場(chǎng)監(jiān)督管理局
- 法人類型:
- 有限責(zé)任公司(自然人投資或控股)
- 地區(qū)編碼:
- 210112
- 組織機(jī)構(gòu)代碼:
- 73868200-1
- 核準(zhǔn)日期:
- 2012-05-29
- 經(jīng)營(yíng)期限:
- 2022-07-18
- 經(jīng)營(yíng)狀態(tài):
- 已注銷
- 成立時(shí)間:
- 2002年07月19日
- 注冊(cè)資本:
- 50 萬(wàn)人民幣 (萬(wàn)元)
- 所屬行業(yè):
- 半導(dǎo)體材料 » 東陵區(qū)半導(dǎo)體材料
- 所屬城市黃頁(yè):
- 沈陽(yáng)企業(yè)網(wǎng) » 東陵區(qū)
- 順企編碼:
- 10521313
沈陽(yáng)華迅真空科技有限公司的股東
股東名字 | 出資比例 | 出資額 |
---|---|---|
王曉光 | 90% | 人民幣45萬(wàn)元 |
許仲蓮 | 10% | 人民幣5萬(wàn)元 |
沈陽(yáng)華迅真空科技有限公司的工商變更記錄
變更項(xiàng)目 | 變更后 | 變更前 | 時(shí)間 |
---|---|---|---|
期限變更 | 2022-07-18 | 2012-07-18 | 2012-05-29 |
章程備案 | 章程 | - | 2012-05-29 |
投資人變更 | 王曉光; 許仲蓮; | 王曉光; 許仲蓮; | 2012-05-29 |
章程備案 | 章程 | 2012-05-29 | |
投資人變更 | 1王曉光;2許仲蓮; | 1王曉光;2許仲蓮; | 2012-05-29 |
地址變更 | 沈陽(yáng)市渾南新區(qū)飛云路18號(hào)115、116、121-123室 | 沈陽(yáng)高新區(qū)渾南產(chǎn)業(yè)區(qū)世紀(jì)路29號(hào) | 2008-03-12 |
名稱變更 | 沈陽(yáng)華迅真空科技有限公司 | 沈陽(yáng)超空科技有限責(zé)任公司 | 2006-11-17 |
高級(jí)管理人員備案 | 王曉光執(zhí)行董事 許仲蓮監(jiān)事 [新增] | 王曉光執(zhí)行董事 | 2006-02-23 |
投資人變更 | 王曉光; 許仲蓮; | 王曉光; 張革; [退出] 許仲蓮; | 2006-02-23 |
高級(jí)管理人員備案 | 1王曉光執(zhí)行董事;2許仲蓮監(jiān)事; | 1王曉光執(zhí)行董事; | 2006-02-23 |
沈陽(yáng)華迅真空科技有限公司的組織架構(gòu)
名字 | 職務(wù) |
---|---|
王曉光 | 執(zhí)行董事 |
許仲蓮 | 監(jiān)事 |
沈陽(yáng)華迅真空科技有限公司的專利證書
CN102796987A | 發(fā)明公布 | 2012-11-28 | 一種氣體離子源裝置 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制 | 王曉光 |
CN102796987B | 發(fā)明授權(quán) | 2014-08-27 | 一種氣體離子源裝置 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制 | 王曉光 |
CN200985344Y | 實(shí)用新型 | 2007-12-05 | 一種用于生成化合物材料薄膜的源裝置 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制 | 王曉光 |
CN201121207Y | 實(shí)用新型 | 2008-09-24 | 一種大面積鍍制太陽(yáng)能整板集熱器芯片的裝置 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制 | 魏海波;王曉光;張晶宇 |
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